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中国夸言自制先进光刻机,网民酸满纸屁话

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发表于 2020-8-31 18:46:42 | 显示全部楼层 |阅读模式
本帖最后由 regent 于 2020-8-31 18:47 编辑

自由时报


中国搜寻网站搜狐日前发表"荷兰ASML总裁:中国永远造不出价值1.2亿美元的光刻机,期待被打脸"一文,指中国已将光刻机国产化,在光刻机领域已经有所突破,未来一定可以制造出先进的光刻机。但这篇文章出炉后反遭中国网民打脸,批评该文是"满纸屁话"。



荷兰光刻机大厂艾斯摩尔(ASML)因遭美国压力,已停止向中国供货。中国媒体夸称要自制先进的光刻机,但遭中国网民打脸。图为ASML台湾极紫外光刻机(EUV)训练中心开幕的剪彩仪式。(路透)

光刻机是用来制造晶片的大型机器,可将设计好的电路图搬到硅晶片上,全球只有少数几家企业能够生产。而极紫外光刻机(EUV)主要用于生产7奈米及更先进制程的晶片,目前全球只有荷兰大厂ASML(艾司摩尔)有能力生产。由于美国对华为等中国业者祭出出口管制,ASML遭到美国的压力,已停止向中国晶片业者供货,若买不到EUV,中国晶片制造厂在相当长时间内将只能停留在12或14奈米制程。

搜狐的文章指出,高端的光刻机号称世界上最精密的仪器之一,所以制造难度相当大,这一点从1台光刻机能够卖到1.2亿美元的天价,就能看得出来。
ASML在光刻机的技术上最顶级,早已经突破了5奈米的工艺制程,日本的佳能和尼康公司分别止步于90奈米和14奈米的工艺技术,凸显ASML已垄断此一技术。

文章说,ASML总裁兼执行长温尼克(Peter Wennink )今年稍早曾表示,"像EUV这样的世界级顶尖的技术,中国是永远不可能模仿出来的",很多人因此认为,中国想要光刻机只能花天价从荷兰进口。但中国其实已将光刻机国产化,上海紫光电子在光刻机领域,已突破了22奈米的紫外线工艺技术,尽管与ASML的技术还相差甚远,但在一定程度上扭转了中国被卡脖子的不利地位。文章说,尽管在光刻机技术上中国还存在很多不足,但是在中国国家政策的支持下,再加上中国科研工作者的坚持努力,不久的将来中国一定可以造出自己的先进光刻机,不亚于世界上一流的水准,且这一天不会太久。

但该文刊出后立刻遭中国网民打脸,指该文作者"连话都说不明白,就别吹了,我们落到今天这种状况,媒体要负很大的责任";有网民则说,"没错,天天喊厉害了我的国,其实我的国没那么厉害,在高精尖技术方面还狠落后,别厉害了,还是韬光养晦做好自己的事,吹牛吹出来科技现代化";也有网友说,"直接挖台积电的骨干力量,直接1亿年薪,即使没挖到,也让台积电难受 ";甚至有网民批评该文是"满纸屁话"。


发表于 2020-9-1 02:58:41 | 显示全部楼层
自制光刻机是亩产万斤的再版
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